一、高真空電弧爐電弧熔煉爐3500度高溫設(shè)計(jì)設(shè)備用途 ：
用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、高真空電弧爐電弧熔煉爐3500度高溫設(shè)計(jì)設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：
1、型號： KDH-500
2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3、真空系統(tǒng)配置：北儀優(yōu)成TRP-24直聯(lián)泵、TK-150擴(kuò)散泵、氣動(dòng)擋板閥和各種管路
4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa
5、熔煉電流：額定電流500A
6、熔煉坩堝 有5個(gè)工位：一個(gè)熔煉合金工位 50-100g 帶磁攪拌，一個(gè)吸鑄工位30-80g 三個(gè)異熔煉工位
7、熔煉樣品重量 (以鐵標(biāo)定) 50-100克
8、真空吸鑄裝置 提供標(biāo)準(zhǔn)吸鑄模具1套
9、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧
